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TFT液晶顯示屏-LCD顯示屏的制造工藝

2023-02-24 2410

TFT液晶顯示屏-LCD顯示屏通過什么制造工藝發(fā)揮其在顯示屏中的巨大優(yōu)勢?本文重點介紹深圳星宇和電子技術(shù)人員對TFT-LCD的制造工藝的詳細介紹,希望對您有所幫助。


TFT液晶顯示屏-LCD彩色液晶屏模塊

1.薄膜晶體管液晶顯示器的制造過程包括以下幾個部分


①在薄膜晶體管基板上形成薄膜晶體管陣列;


2)在彩色濾光片基板上形成彩色濾光片圖案和ITO導電層;


(3)形成具有兩個基板的液晶盒;


④用于安裝外圍電路、組裝背光等的模塊組件。

TFT液晶顯示屏

第二,在TFT液晶顯示屏基板上形成TFT陣列的過程


現(xiàn)在已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化的TFT液晶顯示屏類型有非晶硅TFT (a-Si TFT)、多晶硅TFT (p-Si TFT)和單晶硅TFT(c-Si TFT)。目前還在使用a-Si TFT。


非晶硅薄膜晶體管的制造過程如下:


(1)首先在硼硅玻璃襯底上濺射柵極材料薄膜,經(jīng)過掩膜曝光、顯影和干法刻蝕后形成柵極布線圖形。用于普通掩模曝光的步進曝光機。


②用PECVD法進行連續(xù)成膜,形成SiNx膜、未摻雜a-Si膜和摻磷n+a-Si膜。然后,進行掩模曝光和干法蝕刻以形成TFT部分的a-Si圖案。


③通過濺射成膜法形成透明電極(ITO膜),然后通過掩膜曝光和濕法刻蝕形成顯示電極圖形。


④通過掩模曝光和干法蝕刻形成柵極端子處的絕緣膜的接觸孔圖案。


(5)濺射AL等以形成薄膜,用掩模曝光和蝕刻以形成TFT的源極、漏極和信號線圖案。通過PECVD方法形成保護絕緣膜,然后通過掩模曝光和干法蝕刻對絕緣膜進行蝕刻和成形(保護膜用于保護柵電極、信號線電極端子和顯示電極)。


TFT液晶顯示屏陣列工藝是TFT液晶顯示屏-LCD制造工藝的關(guān)鍵,也是設備投入較大的部分。整個過程需要在非常高的凈化條件下進行(比如10級)。


第三,在濾色器(CF)基板上形成濾色器圖案的過程


彩色濾光片的著色部分的形成方法包括染料法、顏料分散法、印刷法、電解沉積法和噴墨法。目前主要是顏料分散法。


顏料分散法是將顆粒均勻(平均粒徑小于0.1微米)(R、G、B)的精細顏料分散在透明光敏樹脂中。然后,將它們依次涂布、曝光和顯影,形成紅綠藍三色圖案。制造中使用光刻技術(shù),使用的器件主要是鍍膜、曝光、顯影器件。


為了防止漏光,通常在RGB的交界處加入黑矩陣(BM)。過去用濺射法形成單層金屬鉻膜,現(xiàn)在也有金屬鉻和氧化鉻復合的BM膜或混合碳樹脂的樹脂BM。


另外還需要在BM上做保護膜,形成IT0電極,因為帶濾色器的基板是液晶屏的前基板,帶TFT的后基板共同構(gòu)成了液晶盒。所以一定要注意定位問題,讓彩色濾光片的每個單元對應TFT基板的每個像素。


四。液晶盒的制備工藝


在上基板和下基板的表面分別涂覆聚酰亞胺薄膜,形成能夠誘導分子按照摩擦過程的要求進行排列的取向膜。然后,在TFT陣列基板周圍鋪設密封材料,并在基板上噴涂襯墊。同時,在CF基板的透明電極端部涂覆銀漿。然后,將兩個基板對準并結(jié)合,以將CF圖案與TFT像素圖案對準,并通過熱處理固化密封材料。在印刷密封材料時,需要留一個注入口,這樣可以通過真空填充液晶。


近年來,隨著技術(shù)的進步和基板尺寸的不斷增大,盒子的制造技術(shù)也有了很大的提高。比較有代表性的是充晶方式的改變,由原來的盒充法改為ODF法,即充晶和盒成型同時進行。此外,襯片法不再使用傳統(tǒng)的噴涂方法,而是通過光刻直接制作在陣列上。


5.外圍電路、背光組件等模塊組裝工藝。


在液晶盒的制造過程完成后,需要在面板上安裝外圍驅(qū)動電路,然后在兩個基板的表面貼上偏振片。如果是透射式LCD,應該安裝背光。


材料和工藝是影響產(chǎn)品性能的兩個主要因素。TFT液晶顯示屏-LCD顯示屏經(jīng)過以上四個主要工序,大量復雜的制造工藝形成了我們看到的產(chǎn)品。

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